Fabrication et caractérisation de couches minces de silicium-germanium polycristallin déposées par L.P.C.V.D

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Book Synopsis Fabrication et caractérisation de couches minces de silicium-germanium polycristallin déposées par L.P.C.V.D by : Denis Guillet

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FABRICATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM-GERMANIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD APPLICATION AUX TRANSISTORS FILMS MINCES

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Book Synopsis FABRICATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM-GERMANIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD APPLICATION AUX TRANSISTORS FILMS MINCES by : DENIS.. GUILLET

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ELABORATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD POUR APPLICATION PHOTOVOLTIQUE

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Book Synopsis ELABORATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD POUR APPLICATION PHOTOVOLTIQUE by : YAHYA.. LAGHLA

Download or read book ELABORATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD POUR APPLICATION PHOTOVOLTIQUE written by YAHYA.. LAGHLA and published by . This book was released on 1998 with total page 177 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: COMME L'UTILISATIONS DE L'ENERGIE SOLAIRE EST NOUVELLE PAR RAPPORT AUX ENERGIES TRADITIONNELLES (SURTOUT LES COMBUSTIBLES FOSSILES), SA RECHERCHE ET SON DEVELOPPEMENT SONT GUIDES A LA FOIS PAR LES POSSIBILITES PHYSIQUES ET PAR LES ASPECTS ECONOMIQUES, POLITIQUES ET SOCIAUX. LE DEVELOPPEMENT EST UNE RENCONTRE D'UN PRODUIT ET D'UN MARCHE. NOTRE TRAVAIL EST AINSI SEPARE EN 3 PARTIES : UNE PARTIE DITE DE RECHERCHE HORIZONTALE CONCERNANT L'ETUDE PHYSIQUE DU MATERIAU TELLES LES CARACTERISTIQUES OPTIQUES, DONT NOUS AVONS ETUDIE LES PRINCIPALES METHODES DE DETERMINATION DES CONSTANTES OPTIQUES. DANS CETTE PARTIE, NOUS AVONS DETAILLE LES DEUX METHODES D'OBTENTION DE L'EPAISSEUR, DE L'INDICE DE REFRACTION ET DU COEFFICIENT D'ABSORPTION EN FONCTION DES LONGUEURS D'ONDES A PARTIR DU SPECTRE DE TRANSMISSION SEUL METHODE DE FRANGE D'INTERFERENCE ; OU A PARTIR DE LA COMBINAISON DES SPECTRES DE TRANSMISSION ET DE REFLEXION METHODE DITE OCS. APRES LA COMPARAISON DES AVANTAGES ET DES INCONVENIENTS DES DEUX METHODES, NOUS AVONS ABOUTI A UNE NOUVELLE METHODE QUI CONSISTE A COMBINER LES DEUX METHODES EN MEME TEMPS AFIN D'AUGMENTER LA PRECISION SUR LES CONSTANTES OPTIQUES. LA DEUXIEME PARTIE EST DEDIEE A L'APPLICATION DE LA METHODE DITE DE MINIMISATION, AFIN DE CALCULER LES PROPRIETES OPTIQUES DES COUCHES MINCES DE SILICIUM AMORPHE OBTENU PAR DECOMPOSITION EN PHASE VAPEUR A BASSE PRESSION (LPCVD), DE DISILANE, DEPOSEE DANS UN NOUVEAU TYPE DE REACTEUR, APPELE REACTEUR PUIS COMPAREES AU SILICIUM POLYCRISTALLIN OBTENU PAR RECUIT DE CE PREMIER ET AU SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSE DIRECTEMENT PAR DECOMPOSITION DU SILANE PAR LPCVD. CES ETUDES OPTIQUES DE CES DIFFERENTS MATERIAUX NOUS ONT CONDUIT A OPTER POUR LA FILIERE GAZEUSE SILANE ET AU CONDITION DE DEPOT DE CE MATERIAU (T = 660 C, P = 0,3TORR), POUR LA REALISATION DES DIODES PHOTOVOLTAIQUE, ET D'OPTIMISER LES EPAISSEURS CONVENABLE POUR QUE 90% DE LA LUMIERE INCIDENTE SOIT ABSORBEE. DANS UNE DEUXIEME ETAPE DE NOTRE RECHERCHE NOUS AVONS ETUDIE LA CINETIQUE DE DEPOT, LES PROPRIETES OPTIQUES, ELECTRIQUES, ET STRUCTURALES DES DIFFERENTES COUCHES CONTRIBUANT A LA FABRICATION DES DIODES PHOTOVOLTAIQUE, A SAVOIR LES COUCHES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN NON DOPES, DOPEE BORE OU PHOSPHORE. AFIN DE MIEUX COMPRENDRE LES QUALITES DE CES COUCHES, NOUS AVONS ESSAYE DE FAIRE UN LIEN ENTRE LES DIFFERENTES VARIATIONS DES PARAMETRES OPTIQUES ET ELECTRIQUES OBSERVES ET LEUR VARIATION DE STRUCTURE EN FONCTION DE LEURS EPAISSEURS. POUR COMPLETER CES ETUDES, EN DERNIER PARTIE, NOUS SOMMES PASSE A LA PHASE DITE VERTICALE CONSISTANT A LA REALISATION TECHNOLOGIQUE DE CES DIODES AVEC UN MINIMUM D'ETAPES TECHNOLOGIQUES. NOUS AVONS PU OBTENIR DES DIODES A BASE DE SILICIUM POLYCRISTALLIN AVEC UN COURANT DE FUITE MINIMAL ET UNE TRES BONNE TENUE AU COURANT INVERSE JUSQU'A 100V SANS OBSERVER LE CLAQUAGE DE LA JONCTION.

ICREEC 2019

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Book Synopsis ICREEC 2019 by : Ahmed Belasri

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REALISATION ET CARACTERISATION DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN

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Book Synopsis REALISATION ET CARACTERISATION DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN by : ABDALLAH.. SAKRI

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ETUDE DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD

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Book Synopsis ETUDE DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD by : Fekri Karray

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Microstructures en silicium polycristallin déposé sur verre. Application à la réalisation et la caractérisation de transistors en couche mince à grille suspendue

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Book Synopsis Microstructures en silicium polycristallin déposé sur verre. Application à la réalisation et la caractérisation de transistors en couche mince à grille suspendue by : Hicham El-Din Mahfouz Kotb

Download or read book Microstructures en silicium polycristallin déposé sur verre. Application à la réalisation et la caractérisation de transistors en couche mince à grille suspendue written by Hicham El-Din Mahfouz Kotb and published by . This book was released on 2004 with total page 199 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail est consacré à la réalisation, par micro-usinage de surface sur substrat de verre, de transistors en couches minces à grille suspendue (TFTs à air-gap). L'ensemble grille suspendue - couche active est réalisé en couches minces de polysilicium. La première partie de ce travail traite l'optimisation du procédé de fabrication des micro-ponts en polysilicium. La clé de voûte du procédé est un recuit de cristallisation du silicium structurel vers 570 ʿC - 600 ʿC, associé à l'utilisation de germanium comme couche sacrificielle. Dans la deuxième partie, des transistors à air-gap ont été réalisés en utilisant une couche sacrificielle de 500 nm d'épaisseur. Après libération, les transistors ont présenté de bonnes performances avec une pente sous le seuil et une tension de seuil de l'ordre de 0,7 V/dec et 6 V respectivement. L'effet de l'ambiance sur les caractéristiques de ces transistors à air-gap, a été étudié en troisième partie. Enfin, un modèle est proposé afin d'expliquer le comportement électrique du transistor sous l'effet de différentes ambiances.

Elaboration et caractérisation de couches minces de silicium poly cristallin déposées par RT-LPCVD et dopées in situ au phosphore

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Book Synopsis Elaboration et caractérisation de couches minces de silicium poly cristallin déposées par RT-LPCVD et dopées in situ au phosphore by : Sami Kallel

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CROISSANCE ET STRUCTURE DE COUCHES MINCES NANOCRISTALLINES DE SILICIUM ET DE GERMANIUM DEPOSEES A L'AIDE DE DECHARGES LUMINESCENTES

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Book Synopsis CROISSANCE ET STRUCTURE DE COUCHES MINCES NANOCRISTALLINES DE SILICIUM ET DE GERMANIUM DEPOSEES A L'AIDE DE DECHARGES LUMINESCENTES by : Christian Godet

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ETUDE COMPAREE DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DOPE EN VUE D'APPLICATIONS PIEZORESISTIVES

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Book Synopsis ETUDE COMPAREE DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DOPE EN VUE D'APPLICATIONS PIEZORESISTIVES by : Martine Le Berre

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TRANSISTORS EN COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DOPE IN SITU

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Book Synopsis TRANSISTORS EN COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DOPE IN SITU by : Laurent Pichon

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ELABORATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM ET DE SILICIUM-GERMANIUM PAR PULVERISATION IONIQUE ET CARACTERISATION

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Book Synopsis ELABORATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM ET DE SILICIUM-GERMANIUM PAR PULVERISATION IONIQUE ET CARACTERISATION by : YANN.. LE MEUR

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MODELISATION DES TRANSISTORS EN COUCHES MINCES SUR SILICIUM POLYCRISTALLIN A PETITS GRAINS. NON DOPE, EN MODE D'ACCUMULATION

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Book Synopsis MODELISATION DES TRANSISTORS EN COUCHES MINCES SUR SILICIUM POLYCRISTALLIN A PETITS GRAINS. NON DOPE, EN MODE D'ACCUMULATION by : ABDELKADER.. AMROUCHE

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ANALYSE ET CARACTERISATION D'INTERFACES SILICIUM POLYCRISTALLIN/DIOXYDE DE SILICIUM POUR DES APPLICATIONS A DES CAPACITES ET DES TRANSISTORS EN COUCHES MINCES

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Book Synopsis ANALYSE ET CARACTERISATION D'INTERFACES SILICIUM POLYCRISTALLIN/DIOXYDE DE SILICIUM POUR DES APPLICATIONS A DES CAPACITES ET DES TRANSISTORS EN COUCHES MINCES by : ANNE-CLAIRE.. SALAUN MICHEL

Download or read book ANALYSE ET CARACTERISATION D'INTERFACES SILICIUM POLYCRISTALLIN/DIOXYDE DE SILICIUM POUR DES APPLICATIONS A DES CAPACITES ET DES TRANSISTORS EN COUCHES MINCES written by ANNE-CLAIRE.. SALAUN MICHEL and published by . This book was released on 1996 with total page 164 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE TRAVAIL EST CONSACRE AUX DISPOSITIFS DE TYPE MOS REALISES EN TECHNOLOGIE BASSE TEMPERATURE (00C) ET TECHNOLOGIE MOYENNE TEMPERATURE (50C) ET METTANT EN JEU DES COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN. DES CAPACITES MOPS (METAL-OXYDE-POLYSILICIUM-SILICIUM) SONT REALISEES ET CARACTERISEES ELECTRIQUEMENT PAR C(V). UN MODELE SPECIFIQUE REPOSANT SUR LE CALCUL DE LA CAPACITE, A PARTIR DE LA RESOLUTION BIDIMENSIONNELLE DE L'EQUATION DE POISSON A ETE MIS AU POINT, EN PRENANT EN COMPTE LA STRUCTURE POLYCRISTALLINE IDEALISEE. A PARTIR DE CE MODELE, IL EST POSSIBLE DE DISTINGUER LES DISTRIBUTIONS DE PIEGES A L'INTERFACE ET AUX JOINTS DE GRAINS. DIFFERENTES PRESSIONS DE DEPOT ET TECHNIQUES DE CRISTALLISATION DE LA COUCHE DE SILICIUM POLYCRISTALLIN ONT PU ETRE COMPAREES GRACE A CET OUTIL. ON MONTRE AINSI QUE LES COUCHES DE SILICIUM DEPOSEES A 550C ET 90 PA ET CRISTALLISEES DIRECTEMENT PENDANT L'OXYDATION A 950C PERMETTENT D'OBTENIR LA MOINS GRANDE DENSITE DE PIEGES AUX JOINTS DE GRAINS (1X10#1#8 CM#-#3.EV#-#1 AU MILIEU DE LA BANDE INTERDITE) AINSI QU'UNE INTERFACE SI-POLY/OXYDE DE MEILLEURE QUALITE (D#I#T=1X10#1#2 CM#-#2.EV#-#1 AU MILIEU DE LA BANDE INTERDITE). LES CONCLUSIONS PRECEDENTES SONT CONFIRMEES PAR LES PERFORMANCES DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES (TFT). DE PLUS, LE BON FONCTIONNEMENT DE CES TRANSISTORS JUSQU'A 300C PERMET D'ENVISAGER L'INTEGRATION DE CES TRANSISTORS EN SILICIUM POLYCRISTALLIN DANS LES CIRCUITS DE PETITE PUISSANCE INTELLIGENTE DE TYPE SMART-POWER

Caractérisation de couches minces de silicium polycristallin fabriquées par LPCVD dopées in situ en phosphore

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Total Pages : 220 pages
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Book Synopsis Caractérisation de couches minces de silicium polycristallin fabriquées par LPCVD dopées in situ en phosphore by : Geneviève Béïque

Download or read book Caractérisation de couches minces de silicium polycristallin fabriquées par LPCVD dopées in situ en phosphore written by Geneviève Béïque and published by . This book was released on 1992 with total page 220 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium encapsulés dans des matrices siliciées amorphes

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Total Pages : 178 pages
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Book Synopsis Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium encapsulés dans des matrices siliciées amorphes by : Jérémy Barbé

Download or read book Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium encapsulés dans des matrices siliciées amorphes written by Jérémy Barbé and published by . This book was released on 2013 with total page 178 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: En raison de leurs propriétés nouvelles, les matériaux composites à base de nanocristaux de silicium (nc-Si) contenus dans des matrices siliciées amorphes suscitent un intérêt grandissant pour les nombreuses applications envisagées dans les domaines de l'électronique et du photovoltaïque. La fabrication de ces nanostructures est parfaitement compatible avec les technologies existantes. Toutefois, afin d'être intégrés avec succès dans ces dispositifs, les nc-Si et leur environnement doivent avoir des propriétés maitrisées. Dans ce contexte, le travail de thèse a consisté en l'élaboration et la caractérisation de couches de carbure et nitrure de silicium contenant des nc-Si. Ces deux matrices ont retenu notre attention en raison de leur gap intermédiaire entre la silice et le silicium qui permettrait d'obtenir des propriétés améliorées pour les composants électriques. Deux techniques de fabrication ont été étudiées : la nucléation/croissance de nc-Si sur des couches minces a-SiCx par dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), et le dépôt par CVD assisté par plasma pulsé (PPECVD) d'alliages a-SiNx riches en Si, suivi d'un recuit à haute température. Lors de l'interprétation des résultats, une attention particulière a été portée aux effets de surface/interface et au rôle de la matrice sur les propriétés mesurées. Après avoir étudié et maitrisé les conditions de dépôt d'alliages a-SiCx:H par PECVD, nous montrons que la nucléation/croissance de nc-Si sur une surface a-Si0,8C0,2 par LPCVD est favorisée en raison de la concentration en Si élevée de la matrice. Des densités surfaciques de nc-Si supérieures à 1012 cm-2 ont ainsi été atteintes, même pour des temps de dépôt courts ou des débits de silane faibles. Ces premiers résultats indiquent la faisabilité de ce type de structure. Une étude approfondie sur le couple nc-Si/nitrure de silicium a ensuite été menée. Les propriétés structurales, optiques et électriques de couches de nitrure contenant des nc-Si ont été caractérisées à partir d'un large éventail de techniques. Après avoir estimé la taille des nc-Si par spectroscopie Raman, la déconvolution des spectres XPS nous a permis d'expliquer les processus de formation des nc-Si lors du recuit et de proposer un modèle pour décrire la structure des interfaces nc-Si/a-Si3N4. Les propriétés optiques des nc-Si ont ensuite été déterminées par ellipsométrie spectroscopique et spectrophotométrie UV-Vis. L'élargissement du gap, le lissage des constantes diélectriques et l'augmentation du coefficient d'absorption aux faibles énergies avec la diminution de la taille des particules suggèrent un effet de confinement quantique au sein des nc-Si. Des mesures de photoluminescence résolue en temps nous ont permis de conclure que l'utilisation d'une matrice de nitrure est peu appropriée à l'étude de l'émission optique des nc-Si en raison des nombreux défauts radiatifs et non radiatifs présents dans la matrice et aux interfaces. Enfin, les mécanismes de transport des porteurs de charge à travers la couche nanocomposite ont été étudiés à partir de mesures courant-tension. En raison de son caractère percolé, la couche se comporte de façon analogue à une couche de Si polycristallin avec une faible concentration de liaisons pendantes du Si. Un effet de photoconduction attribué aux nc-Si est observé, ce qui offre des perspectives de travail intéressantes.

Forest Fire Research

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ISBN 13 : 9789892021577
Total Pages : 355 pages
Book Rating : 4.0/5 (215 download)

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Book Synopsis Forest Fire Research by : Universidade de Coimbra

Download or read book Forest Fire Research written by Universidade de Coimbra and published by . This book was released on 2010 with total page 355 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: