Read Books Online and Download eBooks, EPub, PDF, Mobi, Kindle, Text Full Free.
Etude Des Transistors Mos Silicium Sur Isolant A Grilles Multiples Tenant En Compte De Lingenierie De La Bande Interdite Et Des Effets Dauto Echauffement
Download Etude Des Transistors Mos Silicium Sur Isolant A Grilles Multiples Tenant En Compte De Lingenierie De La Bande Interdite Et Des Effets Dauto Echauffement full books in PDF, epub, and Kindle. Read online Etude Des Transistors Mos Silicium Sur Isolant A Grilles Multiples Tenant En Compte De Lingenierie De La Bande Interdite Et Des Effets Dauto Echauffement ebook anywhere anytime directly on your device. Fast Download speed and no annoying ads. We cannot guarantee that every ebooks is available!
Book Synopsis Etude Des Transistors MOS Silicium-sur-isolant À Grilles Multiples Tenant en Compte de L'ingénierie de la Bande Interdite Et Des Effets D'auto-échauffement by : Marco Braccioli
Download or read book Etude Des Transistors MOS Silicium-sur-isolant À Grilles Multiples Tenant en Compte de L'ingénierie de la Bande Interdite Et Des Effets D'auto-échauffement written by Marco Braccioli and published by . This book was released on 2009 with total page 148 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This work focuses on the simulation of differents SOI structures. The first part manuscript is about the Monte Carlo simulation of double-gate SOI transistors featuring heterojunctions between the source/drain and the channel. The simulations pointed out a compromise between the gain in terms of provided current obtained by a larger carrier injection velocity, and the detrimental impact due to a bad electrostatic control. The second part concerns the self-heating effects of transistors fabricated in SOI technology, by simulations performed with a commercial tool. Electro-thermal simulations pointed out that self-heating originates by different ways between the different considered structures, because heat generated in the active region can be dissipated both through the contacts, the vertical direction and between adjacent devices. This paths are different for single - or double - gate transistors, of FinFETs. Then, attention has been focused on simulations of FinFET devices, featuring a gate length equal to 30 nm. Self-heating has been studied as a function of different technological parameters : source and drain extension length, buried oxied thickness, distance between adjacent fins, fin height.
Book Synopsis ETUDE EN HAUTE TEMPERATURE DES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES FABRIQUES SUR SILICIUM SUR ISOLANT by : GUENTER.. REICHERT
Download or read book ETUDE EN HAUTE TEMPERATURE DES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES FABRIQUES SUR SILICIUM SUR ISOLANT written by GUENTER.. REICHERT and published by . This book was released on 1998 with total page 189 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'OBJETCTIF DE CETTE THESE EST LA CARACTERISATION ET LA MODELISATION DES TRANSISTORS MOS-SOI COMPLETEMENT DEPLETES DANS LA GAMME DES HAUTES TEMPERATURES (25C - 300C). LE PREMIER CHAPITRE EST UN BREF RAPPEL DES PRINCIPAUX AVANTAGES DE LA TECHNOLOGIE SOI POUR DES APPLICATIONS HAUTES TEMPERATURES. UNE RELATION ENTRE LES MODELES EMPIRIQUE ET PHYSIQUE DE LA MOBILITE EFFECTIVE DES PORTEURS EST ETABLIE DANS LE DEUXIEME CHAPITRE. CETTE RELATION EXPLIQUE LE ROLE DE TROIS PRINCIPAUX MECANISMES DE COLLISIONS DANS LE MODELE EMPIRIQUE AINSI QUE LA VARIATION DE SES PARAMETRES AVEC LA TEMPERATURE. LE TROISIEME CHAPITRE EST RELATIF A LA VARIATION DE LA TENSION DE SEUIL (V#T#1) ET DU SWING (S) AVEC LA TEMPERATURE. NOUS ETUDIONS LA SENSIBILITE A LA TEMPERATURE DE V#T#1 ET DE S EN FONCTION DE LA LONGUEUR DE CANAL, DE L'EPAISSEUR DU FILM ET DE LA POLARISATION DE LA GRILLE ARRIERE. LA DIFFERENCE ENTRE DES TRANSISTORS A CANAL D'INVERSION ET D'ACCUMULATION EST EGALEMENT DISCUTEE. DANS LE DERNIER CHAPITRE NOUS DEVELOPPONS UNE METHODE POUR L'EXTRACTION DU GAIN DU TRANSISTOR BIPOLAIRE PARASITE. EN NOUS BASANT SUR LES VALEURS EXPERIMENTALES, NOUS PRESENTONS UN MODELE POUR LE GAIN EN FONCTION DE LA TEMPERATURE ET DES POLARISATIONS DE DRAIN ET DE GRILLE. ENSUITE, NOUS PROPOSONS UNE TECHNIQUE POUR LA SEPARATION DES EFFETS DE CANAL COURT, DE SUBSTRAT FLOTTANT ET D'AUTO-ECHAUFFEMENT EN UTILISANT LA VARIATION DE LA CONDUCTANCE DE SORTIE AVEC LA TEMPERATURE. EN CONCLUSION, NOS ETUDES ONT MONTRE QUE LA TECHNOLOGIE SOI COMPLETEMENT DEPLETEE REPOND A TOUTES LES EXIGENCES DES CIRCUITS INTEGRES HAUTES TEMPERATURES. CEPENDANT L'OPTIMISATION DES DISPOSITIFS EST INDISPENSABLE POUR GARANTIR LE FONCTIONNEMENT CORRECT DES CIRCUITS AUX TRES HAUTES TEMPERATURES.
Book Synopsis Caractérisation et simulation des transistors MOS Silicium-Sur-Isolant avec contrôle du potentiel par une grille arrière by : Francis Balestra
Download or read book Caractérisation et simulation des transistors MOS Silicium-Sur-Isolant avec contrôle du potentiel par une grille arrière written by Francis Balestra and published by . This book was released on 1985 with total page 110 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE MEMOIRE EST CONSACRE A L'ETUDE DES TRANSISTORS MOS SILICIUM-SUR-ISOLANT. REALISATION D'UN PROGRAMME DE SIMULATION NUMERIQUE, BASE SUR UNE METHODE AUX DIFFERENCES FINIES, QUI PERMET DE CONNAITRE LA REPARTITION DE POTENTIEL DANS DE TELLES STRUCTURES CONTROLEES PAR DEUX GRILLES. CE PROGRAMME EST APPLIQUEE AU CAS DES TRANSISTORS MOS SILICIUM-SUR-SAPHIR (SOS), DONT LE SAPHIR A ETE AMINCI PAR USINAGE ULTRASONORE POUR FACILITER LES MESURES A L'AIDE D'UNE GRILLE ARRIERE. DANS BEAUCOUP DE CAS, LA SIMULATION NUMERIQUE EST INDISPENSABLE POUR INTERPRETER CONVENABLEMENT LE FONCTIONNEMENT ELECTRIQUE DE TELS DISPOSITIFS. ON A PU, PAR AILLEURS, CONNAITRE PRECISEMENT L'EFFET DE CHAQUE PARAMETRE DE CES STRUCTURES (DOPAGE DU SILICIUM, EPAISSEURS DES DIFFERENTES COUCHES, CHARGES AUX INTERFACES...) SUR LEURS CARACTERISTIQUES ELECTRIQUES. EN OUTRE, IL A ETE EXAMINE, A L'AIDE DU PROGRAMME, LES DOMAINES DE VALIDITE ET LES LIMITES DES MODELES ANALYTIQUES EXISTANT DANS LA LITTERATURE
Book Synopsis ETUDE DES TRANSISTORS MOS AVANCES SUR SILICIUM SUR ISOLANT (SOI) by : FEDERICO.. FACCIO
Download or read book ETUDE DES TRANSISTORS MOS AVANCES SUR SILICIUM SUR ISOLANT (SOI) written by FEDERICO.. FACCIO and published by . This book was released on 1997 with total page 169 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: NOUS AVONS ETUDIE LA PERFORMANCE ANALOGIQUE ET LE COMPORTEMENT EN ENVIRONNEMENT RADIATIF DE LA TECHNOLOGIE DURCIE HSOI3-HD EN VUE D'APPLICATIONS POUR L'ELECTRONIQUE DU LHC, FUTUR ACCELERATEUR DE PARTICULES DU CERN. CETTE TECHNOLOGIE CMOS SUR SOI N'EST PAS SENSIBLE AU LATCH-UP ET SON SEUIL DE SENSIBILITE POUR L'ALEA LOGIQUE (SEU) EST TRES ELEVE. NOUS AVONS MESURE ET ANALYSE LES EFFETS DE LA DOSE INTEGREE SUR LES CARACTERISTIQUES STATIQUES DES TRANSISTORS, ET VERIFIE QUE LE DURCISSEMENT JUSQU'A 25 MRAD EST SATISFAISANT POUR LES APPLICATIONS VISEES. LES EFFETS DES IRRADIATIONS AVEC PROTONS ET NEUTRONS ONT ETE MESURES, ET MONTRENT QUE LES EFFETS D'IONISATION DOMINENT SUR LES EFFETS DE DEPLACEMENT PROVOQUES PAR CES PARTICULES. LORS DE L'ETUDE DU BRUIT, NOUS AVONS OBSERVE UNE COMPOSANTE ADDITIONNELLE QUI APPARAIT DANS LE SPECTRE ET SE SUPERPOSE AUX SOURCES DE BRUIT 1/F ET BLANC. CETTE COMPOSANTE SE PRESENTE COMME UNE BOSSE QUI SE DEPLACE EN AMPLITUDE ET FREQUENCE EN FONCTION DE LA POLARISATION DU SUBSTRAT ET DU FILM (BODY). LE MODELE QUE NOUS PROPOSONS SUR SON ORIGINE MET EN JEU LA RESISTANCE DU FILM, QUI GENERE UN BRUIT BLANC FILTRE PAR LA CAPACITE CONSTITUEE PAR LES GRILLES DE FACE AVANT ET DE FACE ARRIERE DU TRANSISTOR. LE BRUIT DE LA RESISTANCE EST TRANSMIS EN COURANT AU DRAIN, ET ATTENUE A PARTIR DE LA FREQUENCE DE COUPURE DU FILTRE. NOUS PRESENTONS UNE SERIE DE VERIFICATIONS EXPERIMENTALES DE CE MODELE, REALISEES SUR DES STRUCTURES SPECIALEMENT CONCUES. UN CIRCUIT CONVERTISSEUR NON LINEAIRE A 11 BITS DE DYNAMIQUE, FONCTIONNANT A 5 MHZ AVEC UNE CONSOMMATION INFERIEURE A 50 MW, A ETE CONCU ET FABRIQUE. L'IRRADIATION A 10 MRAD A COMPROMIS LE FONCTIONNEMENT CORRECT DU CIRCUIT, CE QUI N'EST PAS EXPLICABLE A PARTIR DES MESURES STATISTIQUES SUR LES TRANSISTORS FABRIQUES EN MEME TEMPS. IL SEMBLE DONC NECESSAIRE, DANS L'EVALUATION DU DURCISSEMENT D'UNE TCHNOLOGIE, DE PASSER PAR UNE PHASE DE QUALIFICATION DES CIRCUITS TYPIQUES DE L'APPLICATION SOUHAITEE.
