ETUDE DE LA PULVERISATION LASER DOUCE DES SEMICONDUCTEURS III-V GAAS ET GAALAS AINSI QUE DE LEURS HETEROSTRUCTURES

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Book Synopsis ETUDE DE LA PULVERISATION LASER DOUCE DES SEMICONDUCTEURS III-V GAAS ET GAALAS AINSI QUE DE LEURS HETEROSTRUCTURES by : LAURENT.. VIVET

Download or read book ETUDE DE LA PULVERISATION LASER DOUCE DES SEMICONDUCTEURS III-V GAAS ET GAALAS AINSI QUE DE LEURS HETEROSTRUCTURES written by LAURENT.. VIVET and published by . This book was released on 1996 with total page 271 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: NOUS AVONS D'UNE PART DEVELOPPE LES ETUDES DEJA ENGAGEES AU GREMI CONCERNANT LA MICROANALYSE AVEC RESOLUTION EN PROFONDEUR PAR ABLATION LASER A FAIBLE ENERGIE ET SPECTROMETRIE DE MASSE PAR IONISATION LASER RESONNANTE (RIMS), EN NOUS INTERESSANT AUX SEMICONDUCTEURS III-V GAAS ET GAALAS. L'ETUDE FONDAMENTALE DES INTERACTIONS LASER/SURFACE, PAR RIMS, MICROSCOPIE ELECTRONIQUE A BALAYAGE ET SPECTROSCOPIE EDS, A PERMIS DE METTRE EN EVIDENCE LE ROLE JOUE PAR LES DEFAUTS DE SURFACE DANS L'INITIATION DU PROCESSUS DE PULVERISATION, AINSI QUE L'EFFET THERMIQUE DE L'IRRADIATION LASER. L'EVOLUTION DU MATERIAU SOUS LE FAISCEAU LASER, EST APPARUE GOUVERNEE PAR L'EVOLUTION DES PROPRIETES THERMODYNAMIQUES ET OPTIQUES DE LA COUCHE DE SURFACE, DONT LA COMPOSITION ET LA STRUCTURE SONT PERTURBEES PAR LES TIRS LASER REPETES. DANS UN DEUXIEME TEMPS NOUS AVONS CHERCHE A CARACTERISER L'ETENDUE ET LA NATURE EXACTE DES PERTURBATIONS SUBIES PAR LE MATERIAU IRRADIE. LA MESURE DES PERTURBATIONS, PAR DES TIRS LASER REPETES, DES PROPRIETES DE PHOTOLUMINESCENCE D'UNE HETEROSTRUCTURE DE TYPE GAAS/GAALAS, COMPLETEE PAR L'OBSERVATION AU MICROSCOPE ELECTRONIQUE A TRANSMISSION DE LA STRUCTURE IRRADIEE, ONT PERMIS DE SUIVRE LA PROGRESSION EN PROFONDEUR DE LA COUCHE ALTEREE. DE PLUS, IL A ETE MONTRE QU'IL EXISTE UNE ENERGIE CRITIQUE POUR LAQUELLE LES TOUS PREMIERS TIRS LASER PROVOQUENT L'INTERDIFFUSION DES COUCHES DE GAAS ET GAALAS. LA TROISIEME PARTIE DU MEMOIRE CONCERNE L'INITIATION PAR IMPACT LASER (A TRES FAIBLE ENERGIE) DES MODIFICATIONS CHIMIQUES DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT DE GAAS EN PRESENCE DU GAZ D'AMMONIAC (NH#3) DONT LA REACTIVITE EST DECLENCHEE PAR LE FAISCEAU LASER. PLUS PARTICULIEREMENT NOUS NOUS SOMMES ATTACHES A L'ETUDE DU SCHEMA REACTIONNEL MENANT A LA FORMATION DU NITRURE DE GALLIUM (GAN). IL A ETE MONTRE, PAR SPECTROMETRIE DE MASSE ASSOCIEE A LA DESORPTION LASER ET SPECTROSCOPIE D'ELECTRON AUGER, QUE LA PRODUCTION DE GAN, PAR CETTE METHODE, EST LIMITEE PAR LA FRAGILITE DU SUBSTRAT DE GAAS QUI EST RAPIDEMENT DECOMPOSE ET PULVERISE PAR LE FAISCEAU LASER.

Dynamics of Multi-photon Processes in Semiconductor Heterostructures

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Book Synopsis Dynamics of Multi-photon Processes in Semiconductor Heterostructures by :

Download or read book Dynamics of Multi-photon Processes in Semiconductor Heterostructures written by and published by . This book was released on with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La présente thèse est dédiée à l'étude de la dynamique des processus à plusieurs photons dans les hétérostructures à semi-conducteurs. Une description de la dépendance temporelle est importante pour une compréhension détaillée de la réponse transitoire de semi-conducteurs excités par des impulsions optiques ultracourtes. Dans la première partie de la thèse, nous développons un modèle phénoménologique basé sur un ensemble d'équations de bilan, afin d'étudier le gain à deux photons dégénérés dans une microcavité à semi-conducteurs. L'amplification prédite par le modèle est relativement faible (~2%) et limitée principalement par la relaxation intra-bande des porteurs, qui débouche sur une saturation rapide. Dans la seconde partie, nous développons une théorie générale pour la dynamique des processus à plusieurs photons dans les semi-conducteurs. Elle permettra d'accéder à des effets complexes, liés à la cohérence entre les bandes, qui ne sont pas inclus dans les habituels coefficients d'absorption ou susceptibilités. Dans ce contexte, nous dérivons un ensemble d'équations de Bloch effectives à plusieurs bandes, incluant des processus résonants à plusieurs photons induits par deux impulsions électromagnétiques linéairement polarisées, de fréquence ω1 et ω2, avec ħω1 et 2ħω2 proches de l'énergie de la bande interdite (ou "gap"). L'approche proposée présente essentiellement deux avantages. Premièrement, la description de la dynamique est restreinte à un nombre limité de bandes. Toutefois, les bandes éliminées ne sont pas négligées, mais includes de manière consistante dans les processus d'ordre supérieur. Deuxièmement, toutes les quantités apparaissant dans les équations de Bloch effectives varient sur la même échelle de temps, ce qui permet une intégration numérique beaucoup plus efficace. Le courant de polarisation dépendant du temps, ainsi que certaines susceptibilités, sont dérivés de manière consistante avec les approximations précédentes, et sont discut.

Raman lasers and amplifiers in silicon photonics

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Book Synopsis Raman lasers and amplifiers in silicon photonics by : Mohammad Ahmadi

Download or read book Raman lasers and amplifiers in silicon photonics written by Mohammad Ahmadi and published by . This book was released on 2022 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Le silicium est le fondement de la microélectronique, pour laquelle des milliards de dollars et des décennies de recherche ont été consacrés au développement de l'industrie de la fabrication. Après avoir surmonté un certain nombre d'obstacles techniques difficiles, cette technologie a atteint une maturité, une rentabilité et un processus robuste. La photonique à base de silicium a récemment fait l'objet d'une grande attention en raison de la demande mondiale croissante de données issues des télécommunications. Le silicium, matériau transparent dans les spectres du proche et du moyen infrarouge, permet de concevoir des circuits optiques basés sur cette plate-forme. Tirant parti de l'infrastructure et de l'expertise de la fabrication microélectronique moderne, la photonique de silicium offre de nombreux avantages attrayants en réduisant la taille, la consommation d'énergie et le coût de fabrication, ainsi qu'un grand potentiel de production de masse. Les progrès récents de la photonique de silicium ont permis aux concepteurs d'avoir accès à des librairies de blocs de construction passifs et actifs tels que des multiplexeurs, des résonateurs en anneau, des modulateurs, des photodétecteurs, etc. Ces avancées ont incité les chercheurs à exploiter cette plateforme dans divers domaines allant de la détection à la médecine. L'un des défis de la recherche sur la photonique du silicium est de développer une source de lumière et un amplificateur compatible avec le silicium en raison des bandes interdites indirectes du silicium et du germanium. Plusieurs solutions sont actuellement à l'étude pour fournir des sources de lumière sur puce, qui sont réalisées comme suit : lasers à commande électrique par manipulation de la bande interdite et méthodes de co-intégration ou lasers à commande optique par co-intégration de matériaux de gain, dopage d'un matériau de revêtement avec des ions de terres rares, ou utilisation d'effets non linéaires pour convertir la fréquence. La manipulation de la bande interdite implique l'ingénierie de la bande interdite des matériaux du groupe IV avec des souches ou des alliages pour améliorer l'émission directe de la bande interdite. Les techniques de co-intégration comprennent la croissance épitaxiale hétérogène ou le collage de matériaux du groupe III-V sur le guide d'ondes en silicium pour concevoir un laser ou tirer parti de caractéristiques à gain élevé. Le dopage d'une gaine de verre avec des éléments de terres rares comme le thulium, l'holmium, l'erbium avec des guides d'ondes spécialement conçus pour former une cavité laser a également été proposé comme solution. La conversion de fréquence par des effets non linéaires dans les guides d'ondes en silicium est une autre approche de la génération de lumière sur puce qui peut être réalisée sans aucun post-traitement des puces en silicium sur isolant (SOI). Par exemple, dans le silicium, la non-linéarité du troisième ordre permet la génération de peignes, la génération de supercontinuum, l'oscillation paramétrique optique et l'émission Raman. Parmi celles-ci, la diffusion Raman-Stokes stimulée (SRSS) peut être avantageusement utilisée pour la conversion et l'amplification des longueurs d'onde, car elle ne nécessite pas d'ingénierie de dispersion. Le gain Raman du silicium a donc été exploité dans la conception de divers lasers et amplificateurs sur puce. Les lasers et amplificateurs Raman sur puce utilisent des conceptions simples et ont jusqu'à présent été réalisés principalement avec des tranches de silicium relativement épaisses. Dans ce travail, nous profitons du gain Raman pour étudier, modéliser, concevoir et démontrer expérimentalement un laser et un amplificateur Raman. Nos recherches s'appuient sur une fonderie à accès libre offrant des plaquettes SOI standard avec une épaisseur de silicium de 220 nm. Dans notre première contribution, nous présentons un modèle complet pour un laser Raman CW dans une plateforme SOI. Nous concevons ensuite un laser Raman de 2,232 μm avec une cavité résonante en anneau sur puce. Les valeurs optimisées pour la longueur de la cavité et les rapports de couplage de puissance sont déterminés par la simulation numérique des performances du laser en tenant compte des variations de fabrication. Enfin, en concevant un coupleur directionnel (DC) accordable pour la cavité laser, une conception robuste du laser Raman est présentée. Nous montrons que la réduction des pertes de propagation et l'élimination des porteurs libres, par l'utilisation d'une jonction p-i-n, amélioreront de manière significative les performances du laser Raman en termes de réduction de la puissance de seuil et d'augmentation de l'efficacité de la pente. Dans notre deuxième contribution, nous démontrons un laser Raman accordable de haute performance qui convertit la gamme de longueur d'onde de pompe de 1530 nm - 1600 nm à la gamme de signal de 1662 nm- 1745 nm avec une puissance de sortie moyenne de 3 mW à ~50 mW de puissance de pompe avec un seul dispositif. La caractéristique principale de ce laser est l'utilisation d'un mécanisme de couplage accordable pour ajuster les coefficients de couplage de la pompe et du signal dans la cavité en anneau et compenser les erreurs de fabrication. Nos résultats sont très prometteurs pour l'augmentation substantielle des ressources spectrales optiques disponibles sur une puce de silicium. Nous démontrons également, pour la première fois, un laser Raman dans l'infrarouge moyen générant un signal à 2,231 μm avec une pompe à 2 μm et étudions les défis d'obtenir une émission cette bande. Notre dernière contribution est dédiée à l'amplificateur Raman, nous discutons et validons expérimentalement l'importance de considérer le gain Raman non-réciproque en utilisant une pompe et une sonde contre-propagatives ou co-propagatives, différentes longueurs d'amplificateur, puissances de pompe d'entrée et valeurs de perte non-linéaire. Nous démontrons un circuit optique sans perte assisté par Raman dans un guide d'ondes de 1,2 cm de longueur qui atteint un gain net nul avec seulement 60 mW de pompage en puissance continue. Nous examinons les pertes non linéaires des guides d'ondes en silicium pour estimer la durée de vie des porteurs libres (FCL), puis nous extrayons le coefficient de gain Raman du guide d'ondes photonique en silicium. Nous utilisons ensuite ces paramètres clés comme entrée d'un modèle d'amplificateur Raman photonique au silicium pour trouver la performance optimale en fonction de l'encombrement et de la puissance de pompage disponibles.

Production of Pure Ion Beams by Laser Ionization and a Fast Release RFQ

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Book Synopsis Production of Pure Ion Beams by Laser Ionization and a Fast Release RFQ by : Jean-Philippe Lavoie

Download or read book Production of Pure Ion Beams by Laser Ionization and a Fast Release RFQ written by Jean-Philippe Lavoie and published by . This book was released on 2010 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: TRIUMF utilise la méthode de séparation isotopique en ligne (ISAC) pour produire des faiceaux exotiques, c'est-à-dire des faisceaux d'ion hors de la vallée de stabilité. Le besoin d'accéder à des régions de plus en plus exotiques est une source de nouveaux défis pour la production de faisceaux. L'un d'entre eux concerne l'élimination des contaminations iso-bariques polluant le faisceau d'intérêt. Pour résoudre ce problème, un nouveau type de source d'ions tirant parti d'un quadriple radio-fréquence (RFQ) et de l'ionisation résonante par laser (LIS) a été développé. La gamme de fréquence du RFQ (500 kHz - 3 MHz) et l'amplitude du signal (10 - 200 V cc) permettent la production de tout isotope pouvant être ionisé par laser à ISAC. Les tests variés menés avec la nouvelle source RFQ - LIS ont permis de démontrer que presque 100 % des contaminants, ionisés par contact avec une surface chaude, pouvaient être repoussés, ne laissant qu'un faisceau d'ions purs ionisés par laser. Afin de développer un prototype fonctionnel, des simulations de trajectoires d'ions dans un RFQ opérant avec une onde carrée ont été effectuées. De plus, l'étude de la dynamique dans l'espace de phase et des équations du mouvement par méthode matricielle ont permis de simuler l'acceptance et la limite de charge d'espace du RFQ. Cette dernière a été établie à 90.5 nA pour une fréquence d'opération de 1 MHz et avec un paramtre quadriplaire qu de 0,59. Cette condition certifie le bon fonctionnement du RFQ puisque les intensités de faisceaux mesurées étaient généralement de quelques dizaines de nA. Afin d'accueillir la source nouvellement développée et de permettre le développement d'autres sources, un système expérimental a été construit. Il permet d'opérer à des énergies de faisceaux pouvant atteindre 35 keV. La chambre expérimentale est munie d'un déflecteur sphérique électrostatique (90°) ainsi que d'un spectromètre de masse pour permettre de caractériser la composition en masse des faisceaux d'ions produits. L'acquisition quasi simultanée de masses jusqu'à 300 amu ainsi que le système de détection double permettant des mesures d'intensités allant d'un seul ion à plusieurs nA, rendent le système pratique en comparaison des systèmes courants basés sur des aimants. Enfin, le nouveau système expérimental permet d'effectuer une grande variété de mesures. Ceci inclut les mesures d'efficacités de sources d'ions, la caractérisation des largeurs d'impulsions d'ions produits par laser ainsi que le développement de nouveaux schémas d'ionisation laser.