Analyse Et Modelisation Des Depots Doxyde De Silicium Par Procede Lpcvd

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Analyse et modélisation des dépots d'oxyde de silicium par procédé LPCVD

Author : Francine Fayolle (Chimiste)
Publisher :
ISBN 13 :
Total Pages : 215 pages
Book Rating : 4.:/5 (49 download)

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Book Synopsis Analyse et modélisation des dépots d'oxyde de silicium par procédé LPCVD by : Francine Fayolle (Chimiste)

Download or read book Analyse et modélisation des dépots d'oxyde de silicium par procédé LPCVD written by Francine Fayolle (Chimiste) and published by . This book was released on 1993 with total page 215 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LE DEPOT CHIMIQUE A PARTIR D'UNE PHASE VAPEUR (CVD) EST LE PROCEDE LE PLUS UTILISE DANS L'INDUSTRIE MICRO-ELECTRONIQUE POUR REALISER DES COUCHES MINCES, EFFECTUEES LE PLUS SOUVENT DANS DES REACTEURS TUBULAIRES A MURS CHAUDS. L'UNE DES APPLICATIONS DE LA CVD EST LA FABRICATION DE COUCHES DE SILICIUM PARTIELLEMENT OXYDE, ET SEMI-ISOLANTES (APPELE SIPOS), A PARTIR D'UN MELANGE DE SILANE ET DE PROTOXYDE D'AZOTE. LA PREMIERE PARTIE DE CE TRAVAIL CORRESPOND A L'ETUDE ET L'ETABLISSEMENT D'UN SYSTEME CHIMIQUE COMPORTANT DEUX PHASES (GAZEUSE ET SOLIDE) ET REPRESENTATIF DU DEPOT. LES CONSTANTES CINETIQUES CORRESPONDANT AUX REACTIONS HOMOGENES SONT EVALUEES A PARTIR DE DIFFERENTES METHODES, EN PARTICULIER LA METHODE QRRK. LA SECONDE PARTIE COMPREND LE DEVELOPPEMENT ET L'UTILISATION DE DEUX LOGICIELS PERMETTANT DE MODELISER LES ECOULEMENTS ET LE TRANSFERT DE MATIERE DANS UN REACTEUR DE DEPOT DE SIPOS EN UTILISANT LE SYSTEME CHIMIQUE DECRIT PRECEDEMMENT. LE PREMIER LOGICIEL, CVD2 MODELISE UN ESPACE INTERPLAQUETTE. IL A PERMIS D'IDENTIFIER LES CONSTANTES DE DEPOT EN PHASE HETEROGENE. LE LOGICIEL CWCVD A PERMIS D'ETUDIER LA ZONE D'ENTREE DU REACTEUR. LES RESULTATS DE CES SIMULATIONS SONT COMPARES AVEC DES RESULTATS EXPERIMENTAUX OBTENUS A L'USINE MOTOROLA DE TOULOUSE. CEUX-CI SONT DETAILLES AINSI QUE LES METHODES D'ANALYSE UTILISEES. LE BON ACCORD OBTENU ENTRE LA SIMULATION ET LES EXPERIENCES PERMET DE VALIDER LES CHOIX EFFECTUES AU NIVEAU DU MECANISME CHIMIQUE ET D'AVANCER DANS LA COMPREHENSION DES PHENOMENES MIS EN JEU LORS DU DEPOT DE SIPOS. UNE DERNIERE PARTIE UTILISE LA METHODE QRRK POUR UN AUTRE TYPE DE DEPOT D'OXYDE, CETTE FOIS TOTALEMENT ISOLANT, A PARTIR D'UN MELANGE D'OXYGENE ET DE SILANE (LTO). LE TYPE DE REACTEUR DE DEPOT NE PERMETTANT PAS L'UTILISATION DIRECTE DES LOGICIELS DECRITS PRECEDEMMENT, SEULE UNE PREMIERE ANALYSE DU SYSTEME CHIMIQUE A PU ETRE EFFECTUEE

Modélisation cinétique et analyse structurale des dépôts de sipos élaborés par LPCVD

Author : Patrick Barathieu
Publisher :
ISBN 13 :
Total Pages : 246 pages
Book Rating : 4.:/5 (495 download)

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Book Synopsis Modélisation cinétique et analyse structurale des dépôts de sipos élaborés par LPCVD by : Patrick Barathieu

Download or read book Modélisation cinétique et analyse structurale des dépôts de sipos élaborés par LPCVD written by Patrick Barathieu and published by . This book was released on 1999 with total page 246 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Les dépôts LPCVD de silicium partiellement oxydé (SIPOS) sont utilisés dans l'industrie de la microélectronique pour la fabrication de transistors bipolaires de puissance. L'influence des paramètres d'élaboration sur la microstructure de ce matériau, et donc sur ses propriétés d'usage, et la complexité des mécanismes physico-chimiques intervenant au cours du dépôt rendent sa maîtrise industrielle délicate. Un travail axé à la fois sur la modélisation cinétique du procédé de dépôt et sur la caractérisation structurale du matériau a donc été entrepris. Dans un premier temps, une campagne expérimentale sur site industriel a permis de déterminer, en fonction des paramètres opératoires sélectionnés, les caractéristiques globales des couches de SIPOS, (vitesse de dépôt et concentration en oxygène des couches), et d'évaluer l'uniformité du dépôt aussi bien sur la surface d'une même plaquette, qu'entre les nombreuses plaquettes traitées par opération de dépôt. D'un point de vue pratique, ces résultats expérimentaux ont abouti à une optimisation du procédé et à une augmentation de la productivité des équipements de production. Grâce à cette base de données, un schéma réactionnel regroupant les réactions chimiques impliquées au cours du dépôt a été établi, et les cinétiques associées calculées. Ces mécanismes ont été incorporés dans deux codes de modélisation numérique, CVD2 et ESTET, prenant en compte les phénomènes aérodynamiques et les transferts de matière intervenant dans l'enceinte du réacteur. Les résultats des simulations ont permis de progresser dans la compréhension et la maîtrise du procédé. En parallèle, une étude de la microstructure du SIPOS, menée dans le cadre d'un groupement de travail pluridisciplinaire, impliquant de nombreux laboratoires de recherche, a révélé l'influence capitale des recuits post-dépôts, par l'utilisation conjointe de diverses techniques, telles que la spectroscopies des rayons X et la microscopie électronique en transmission.

Dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir d'un mélange silane-ammoniac

Author : Khalid Yacoubi
Publisher :
ISBN 13 :
Total Pages : 162 pages
Book Rating : 4.:/5 (49 download)

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Book Synopsis Dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir d'un mélange silane-ammoniac by : Khalid Yacoubi

Download or read book Dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir d'un mélange silane-ammoniac written by Khalid Yacoubi and published by . This book was released on 1996 with total page 162 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE TRAVAIL CONSISTE EN L'ANALYSE ET LA MODELISATION DU DEPOT PAR LPCVD (LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) DE NITRURE DE SILICIUM, COURAMMENT UTILISE DANS L'INDUSTRIE MICROELECTRONIQUE COMME COUCHE DE PASSIVATION. LE DEPOT EST REALISE PAR PYROLYSE D'UN MELANGE SILANE-AMMONIAC DANS UN REACTEUR DE TYPE TUBULAIRE HORIZONTAL A PAROIS CHAUDES FONCTIONNANT A BASSE PRESSION. EN RAISON DU NOMBRE LIMITE DE DONNEES DE LA LITTERATURE, LA PREMIERE PARTIE DE CE TRAVAIL CONSISTE EN UNE ETUDE EXPERIMENTALE, AFIN DE DEGAGER LES CARACTERISTIQUES DU DEPOT. NOUS MONTRONS QUE LE MECANISME CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE JOUE UN ROLE IMPORTANT, NOTAMMENT DANS LA FORMATION DE SUREPAISSEURS A LA PERIPHERIE DES PLAQUETTES. UNE ANALYSE APPROFONDIE DU SYSTEME CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE ET DU ROLE DES DIFFERENTES ESPECES SUSCEPTIBLES DE CONTRIBUER AU DEPOT NOUS AMENE A PROPOSER UN MECANISME CHIMIQUE SIMPLIFIE, MAIS SUFFISAMMENT REPRESENTATIF POUR RENDRE COMPTE DES OBSERVATIONS EXPERIMENTALES. LES CONSTANTES CINETIQUES EN PHASE GAZEUSE ONT ETE EVALUEES A PARTIR D'UN MODELE QRRK. NOUS PRESENTONS ENSUITE L'EXTENSION AU CAS DU DEPOT DE NITRURE DE SILICIUM DU LOGICIEL CVD2, PRECEDEMMENT DEVELOPPE DANS NOTRE LABORATOIRE (MODELE BIDIMENSIONNEL D'ETUDE LOCALE QUI INTEGRE LES EQUATIONS DE NAVIER STOKES, DE TRANSFERT DE MATIERE COUPLEES AUX LOIS CINETIQUES DES REACTIONS CHIMIQUES MISES EN JEU). LA DETERMINATION DES CONSTANTES CINETIQUES EN PHASE HETEROGENE A ETE EFFECTUEE PAR IDENTIFICATION AVEC NOS RESULTATS EXPERIMENTAUX (I. E., EPAISSEUR DU DEPOT ET RAPPORT MOLAIRE SI/N). L'ETUDE COMBINEE SIMULATION-EXPERIENCE A PERMIS DE VALIDER LES CHOIX EFFECTUES AU NIVEAU DES MECANISMES CHIMIQUES PROPOSES ET D'APPORTER UNE CONTRIBUTION A L'EXPLICATION DES PHENOMENES MIS EN JEU LORS DU DEPOT

Modélisation des dépôts LPCVD de SIPOS

Author : Céline Cordier
Publisher :
ISBN 13 :
Total Pages : 252 pages
Book Rating : 4.:/5 (489 download)

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Book Synopsis Modélisation des dépôts LPCVD de SIPOS by : Céline Cordier

Download or read book Modélisation des dépôts LPCVD de SIPOS written by Céline Cordier and published by . This book was released on 1996 with total page 252 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'OBJECTIF GENERAL DE CE TRAVAIL CONSISTE A ANALYSER ET A MODELISER L'OPERATION INDUSTRIELLE DE DEPOT DE SILICIUM PARTIELLEMENT OXYDE, OU SIPOS, ELABORE PAR UN PROCEDE DE TYPE LPCVD, A PARTIR DE MELANGES DE SILANE SIH#4, OU DE DISILANE SI#2H#6, ET DE PROTOXYDE D'AZOTE N#2O. LA PREMIERE PHASE DE CE TRAVAIL CORRESPOND A L'ANALYSE DETAILLEE DES MECANISMES CHIMIQUES SUSCEPTIBLES DE SE PRODUIRE AU COURS DE L'OPERATION DE DEPOT, DANS LA PHASE HOMOGENE COMME SUR LES SURFACES, PUIS A L'ELABORATION D'UN SCHEMA REPRESENTATIF DES PHENOMENES REELS ET SIMPLE D'UTILISATION. LES CONSTANTES CINETIQUES RELATIVES AUX REACTIONS HOMOGENES SONT EVALUEES GRACE A DIVERSES METHODES DE CALCUL PREVISIONNEL DONT LA METHODE QRRK. LA SECONDE PARTIE COMPREND LE DEVELOPPEMENT ET L'EXPLOITATION D'UN LOGICIEL DE SIMULATION DU FONCTIONNEMENT DES REACTEURS TUBULAIRES DE CVD, QUI CALCULE, DANS UN ESPACE INTER-PLAQUETTES PARTICULIER, LES CHAMPS DE VITESSE ET DE CONCENTRATION EN TENANT COMPTE DES REACTIONS CHIMIQUES. CE MODELE A TOUT D'ABORD PERMIS D'IDENTIFIER LES CONSTANTES CINETIQUES DE DEPOT INCONNUES, PUIS D'ETUDIER, POUR LES DEUX FILIERES, L'INFLUENCE SYSTEMATIQUE DE CERTAINS PARAMETRES OPERATOIRES SUR LES DEPOTS, L'EVOLUTION DES CARACTERISTIQUES DES COUCHES LE LONG DE LA CHARGE, LES PROBLEMES D'HETEROGENEITES D'EPAISSEUR ET DE COMPOSITION AU NIVEAU DE CHAQUE SUBSTRAT. POUR LES DEUX PROCEDES, UN ACCORD SATISFAISANT A ETE OBSERVE ENTRE LES RESULTATS THEORIQUES ET LES VALEURS EXPERIMENTALES, CE QUI PERMET DE VALIDER LES CHOIX EFFECTUES AU NIVEAU DES SCHEMAS CHIMIQUES ET DE LEUR MISE EN EQUATION D'UNE PART, ET DES HYPOTHESES DU MODELE D'AUTRE PART. UNE DERNIERE PARTIE CONCERNE LA MODELISATION DE L'OPERATION DE DEPOT DE SIPOS DANS LE REACTEUR SECTEUR, MODELE REDUIT D'UN EQUIPEMENT DE CONCEPTION ORIGINALE, LE REACTEUR ANNULAIRE. L'UTILISATION DE DEUX LOGICIELS DE CALCUL, ADAPTES AU CAS DU SIPOS A L'AIDE DES MECANISMES PRECEDEMMENT ETABLIS, A PERMIS DE RETROUVER, SANS MODIFICATION SUPPLEMENTAIRE, L'ENSEMBLE DES RESULTATS EXPERIMENTAUX OBTENUS

Application of Particle and Laser Beams in Materials Technology

Author : P. Misaelides
Publisher : Springer Science & Business Media
ISBN 13 : 9780792333241
Total Pages : 702 pages
Book Rating : 4.3/5 (332 download)

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Book Synopsis Application of Particle and Laser Beams in Materials Technology by : P. Misaelides

Download or read book Application of Particle and Laser Beams in Materials Technology written by P. Misaelides and published by Springer Science & Business Media. This book was released on 1995-01-31 with total page 702 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: The development of advanced materials with preselected properties is one of the main goals of materials research. Of especial interest are electronics, high-temperature and superhard materials for various applications, as well as alloys with improved wear, corrosion and mechanical resistance properties. The technical challenge connected with the production of these materials is not only associated with the development of new specialised preparation techniques but also with quality control. The energetic charged particle, electron and photon beams offer the possibility of modifying the properties of the near-surface regions of materials without seriously affecting their bulk, and provide unique analytical tools for testing their quality. Application of Particle and Laser Beams in Materials Technology provides an overview of this rapidly expanding field. Fundamental aspects concerning the interactions and collisions on atomic, nuclear and solid state scale are presented in a didactic way, along with the application of a variety of techniques for the solution of problems ranging from the development of electronics materials to corrosion research and from archaeometry to environmental protection. The book is divided into six thematic units: Fundamentals, Surface Analysis Techniques, Laser Beams in Materials Technology, Accelerator-Based Techniques in Materials Technology, Materials Modification and Synchrotron Radiation.

Modern Surface Organometallic Chemistry

Author : Jean-Marie Basset
Publisher : John Wiley & Sons
ISBN 13 : 3527627103
Total Pages : 725 pages
Book Rating : 4.5/5 (276 download)

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Book Synopsis Modern Surface Organometallic Chemistry by : Jean-Marie Basset

Download or read book Modern Surface Organometallic Chemistry written by Jean-Marie Basset and published by John Wiley & Sons. This book was released on 2009-07-10 with total page 725 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Covering everything from the basics to recent applications, this monograph represents an advanced overview of the field. Edited by internationally acclaimed experts respected throughout the community, the book is clearly divided into sections on fundamental and applied surface organometallic chemistry. Backed by numerous examples from the recent literature, this is a key reference for all chemists.